高通量微波消解系統(tǒng)未來發(fā)展方向

    高通量微波消解系統(tǒng)是*獲得 R&D100 大獎的微波樣品前處理儀器, 高通量微波消解系統(tǒng)實現(xiàn)了實驗化學家對于密閉微波化學反應系統(tǒng)的安全性、科學性和性要求的不懈追求。高通量微波消解系統(tǒng)是具備化學反應過程控制的微波加速反應系統(tǒng),控制, 顯示和操作系統(tǒng)一體化集成, 高通量微波消解系統(tǒng)具有可靠的整機防腐設計, 節(jié)省空間, 同時儀器一機多能, 可用于分析化學的樣品消解, 萃取, 蛋白水解, 濃縮, 干燥,實驗化學的有機/無機合成, 以及化學工藝模擬數(shù)據(jù)條件中試等各種微波化學應用。

    高通量微波消解系統(tǒng)主機

    1.電源要求：220 VAC 50 Hz 1

    2.微波源：專業(yè)微波源，單/雙磁控管（PowerMAX 技術啟動）

    3.整機功率：3150W，微波輸出功率 ：1800W（標定標準：IEC 705 Method 1988）

    4.微波輸出特性  0-1800W 全范圍非脈沖連續(xù)微波（技術　US.P.6288379，6084226）

    5.微波均勻性：垂直雙向波導設計，三維輸出技術，匹配諧波功頻實現(xiàn)了高度的場均勻性

    6.電磁屏蔽：單向循環(huán)晶體，（US4835354）吸收體保護，零負載運行微波屏蔽測試，符合UL標準

    7.微波腔體：66L，316級全不銹鋼腔體，多層防腐耐高溫特氟隆涂層

    8.整機外殼：由碳纖維加強聚合材料，高通量微波消解系統(tǒng)外殼涂層組成，高強度結構和實驗室防腐防銹性能

    9.內置燈光：通過改變色彩和強弱區(qū)別反應消微波解狀態(tài)，反饋高通量微波消解系統(tǒng)密閉狀態(tài)以及異常預警狀態(tài)

    11.防爆可視窗：直接觀察腔內異常情況，保證開關門安全

    12.內置排風：大功率湍流排風冷卻特別設計，實現(xiàn)快速風冷

    13.輸入輸出口：頂部標準0.50″輸入輸出接口或可選的其它尺寸接口，高通量微波消解系統(tǒng)用于多樣性反應需求

    14.轉盤設計： PerfectCircleTM 模式，360°同向連續(xù)旋轉或交替式往復旋轉兩種模式

    15.One Touch技術：自動傳感識別系統(tǒng)，自動匹配標準應用方法和功率參數(shù)優(yōu)化，一鍵消解（）

    16.Power MAX技術：能量控制技術，高通量微波消解系統(tǒng)優(yōu)化微波動力學能量模式（US.P.6917023）

    17.視頻顯示和操作：電容式觸摸屏 + 防腐涂層，7″TFT-LED（800X480彩），雙聲道揚聲器

    18.視頻安全監(jiān)控：內置高清網(wǎng)絡攝像頭，實時監(jiān)控儀器運行安全

    19.CPU操作系統(tǒng)：Linux開放式操作平臺，700MHz雙核處理器，8G內存容量，可移動存儲卡，實現(xiàn)遠程控制和網(wǎng)絡管理，一機完成所有操作。也可選SynergyPrep電腦連機軟件

    20.內存文件：內置EPA，ASTM和GB等所有應用方法

    21.操作語言：中文簡繁，英、德、日、法、西、意等操作界面語言可選

    22.數(shù)據(jù)接口：6個USB接口，2個以太網(wǎng)接口和1個RS-232接口

    高通量微波消解系統(tǒng)具有金剛之軀采用加厚增強的特種不銹鋼微波諧振腔腔體，并擴大爐腔的容積至66L，高通量微波消解系統(tǒng)可以容納多種消解罐和處理1-20個樣品；同時配置全罐紅外測溫和全罐壓力監(jiān)控功能，非脈沖連續(xù)微波輸出，雙磁控管排列設計，高頻閉環(huán)反饋控制等手段，高通量微波消解系統(tǒng)可控制微波化學反應進程。高通量微波消解系統(tǒng)適用于用原子光譜如原子吸收儀、ICP-發(fā)射光譜儀、原子熒光儀、ICP-質譜儀、以及陽極溶出儀等對各種試樣中的微量、痕量及超痕量元素的準確測定。

    高通量微波消解系統(tǒng)消解*后，取消解內罐置APL趕酸器上緩緩加熱至紅棕色蒸氣揮盡并近干，用2%硝酸轉入25ml量瓶中，并稀釋至刻度，搖勻，即得。同法同時制備試劑空白溶液；另取鉻單元素標準溶液,用2%硝酸稀釋制成每1ml含鉻1.0μg的鉻標準儲備液，臨用時，分別精密量取鉻標準儲備液適量，用2%硝酸溶液稀釋制成每1ml含鉻0-80ng的對照品溶液。取供試品溶液與對照品溶液，高通量微波消解系統(tǒng)以石墨爐為原子化器，照原子吸收分光光度法(附錄Ⅳ D*法),在357.9nm測定，含鉻不得過百萬分之二。